1：其他雜質對氧化膜層的影響

氯離子、氟離子、硝酸根離子等陰離子含量高時，能使膜層孔隙增大，導致膜層疏松、粗糙，甚至發生局部腐蝕；這些雜質在電解液中的允許含量為：氯離子小于100mg/L，氟離子小于50mg/L；當超過這一極限值時，鋁型材產品表面將不能形成合格的氧化膜層，甚至會發生穿孔現象而報廢；這些陰離子雜質主要來自配制電解液和清洗工序的水源，特別是氯離子；因而必須嚴格控制水質，所以在配制硫酸電解液時盡量采用去離子水或蒸餾水配制；

硅在硫酸電解液中不溶解，主要在溶液中懸浮，使電解液渾濁度增大，并易于以褐色的粉狀物吸附在陽極鋁型材表面使膜層產生斑點；經常過濾電解液一般都能有效地除掉；

攪拌使用的壓縮空氣帶來的油脂同樣會阻礙氧化膜層的正常生長，使膜層發生局部浸蝕，或是進入孔隙中而使膜層出現斑痕，影響著色效果；

2：電壓、電流、時間因素對氧化膜的影響

電壓決定電流的大小，再通過時間就可決定氧化膜的厚度；現在的氧化電源都具有恒流和恒壓方式的選擇；恒流方式最能直觀反應單位面積電流密度，厚度也易于通過時間控制；但在生產過程中，氧化的鋁型材大部分外形都比較復雜，在同一個氧化槽中還存在多種鋁型材的同時氧化處理，要準確計算實際表面積有一定困難；只有形狀簡單且大批量單一固定的鋁型材，才使用恒電流加工方式；在更多情況下，都是采用恒電壓控制方式進行陽極氧化處理；對不同要求的鋁型材有不同的氧化膜厚度要求，也就有了不同的控制電壓和陽極氧化時間；下表列出了一些通常用途的陽極氧化電壓及氧化時間以供參考；